中国电子工程用高纯硅烷行业投资现状与前景战略分析报告

来源：北京中研华泰信息技术研究院 时间：2024-05-17 04:32:29 [举报]

中国电子工程用高纯硅烷行业投资现状与前景战略分析报告2023-2028年
【报告编号】: 389749
【出版时间】: 2023年2月
【出版机构】: 中研智业研究院
【交付方式】: EMIL电子版或特快专递
【报告价格】:【纸质版】: 6500元 【电子版】: 6800元 【纸质+电子】: 7000元

免费售后服务一年，具体内容及订购流程欢迎咨询客服人员。

章 半导体、光伏产业用高纯硅烷概述 16
1.1 高纯硅烷简介 16
1.2 高纯硅烷的主要基本性能与质量指标 17
1.3 高纯硅烷的主要应用领域 18
1.4 高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用 19
二章 电子特种气体及其应用市场 20
2.1 电子特种气体概述 20
2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面 21
2.3 电子特种气体的纯净度要求 23
2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题 25
2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题 25
2.4.2 气体配送及供应问题 26
2.4.3 储存、使用中的安全性问题 27
2.4.4 成本性问题 28
2.5 国内外电子特种气体行业发展概述 29
2.5.1 境外电子特种气体生产与市场情况 29
2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展 30
三章 高纯硅烷气体性能指标及制备、净化的工艺路线 33
3.1 高纯硅烷的性能指标 33
3.2 高纯硅烷工业化制备的典型工艺路线 34
3.2.1 制备工艺法概述 34
3.2.2 硅化镁合金法制备硅烷 34
3.2.2.1 工艺过程 34
3.2.2.2 主要反应 36
3.2.2.3 工艺特点 36
3.2.2.4 工艺法存在的问题 37
3.2.3 三氯氢硅还原法制备硅烷 37
3.2.3.1 工艺过程 37
3.2.3.2 主要反应 39
3.2.3.3 工艺特点 39
3.2.3.4 工艺法存在的问题 40
3.2.4 四氟化硅还原法制备硅烷 41
3.2.4.1 工艺过程 41
3.2.4.2 主要反应 41
3.2.4.3 工艺特点 41
3.2.4.4 工艺法存在的问题 42

标签：电子工程用高纯硅烷